चुंबकीय स्तर गेज इलेक्ट्रिक हीट ट्रेसिंग प्रकार

चुंबकीय स्तर गेज इलेक्ट्रिक हीट ट्रेसिंग प्रकार
विवरण:
इलेक्ट्रिक ट्रेसिंग के लिए बिजली की आपूर्ति: 220VAC
विद्युत कनेक्शन:G3/4"
मापने की सीमा:0...300मिमी...5500मिमी
प्रक्रिया दबाव:-0.1...25एमपीए (कक्षा1500)
घनत्व:न्यूनतम. 0.4किलोग्राम/डीएम³, इंटरफ़ेस के लिए: घनत्व अंतर 0.2किग्रा/डीएम³ से अधिक या उसके बराबर
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विवरण

 

सिद्धांत

चुंबकीय स्तर गेज इलेक्ट्रिक हीट ट्रेसिंग प्रकार

आवेदन

पानी, जलीय घोल, तेल और तेल का मिश्रण आदि, जिन्हें गर्म या गरम रखा जाना आवश्यक है

इलेक्ट्रिक ट्रेसिंग के लिए बिजली की आपूर्ति

220VAC

बिजली का संपर्क

G3/4"

माप

स्तर या इंटरफ़ेस

स्थापित करने की स्थिति

टैंक का ऊर्ध्वाधर/शीर्ष

मापने की सीमा

0...300मिमी...5500 मिमी

पाइप सामग्री

एल्यूमिनियम (मुहरबंद प्रकार)

तैरने वाली सामग्री

304, 316एल, टीआई

प्रक्रिया कनेक्शन

निकला हुआ किनारा (उपयोगकर्ता की आवश्यकताओं के अनुसार)

प्रक्रिया का दबाव

-0.1...25एमपीए (कक्षा1500)

प्रक्रिया तापमान

-40-120 डिग्री

परिवेश का तापमान

-40...85 डिग्री

घनत्व

न्यूनतम . 0.4किग्रा/डीएम³, इंटरफ़ेस के लिए: घनत्व अंतर 0.2 किग्रा/डीएम³ से अधिक या उसके बराबर

वेंट कनेक्शन

मानक (उपयोगकर्ता की आवश्यकताओं के अनुसार अन्य)

नाली कनेक्शन

प्लग आर½" या वाल्व (अन्य अनुरोध भी उपलब्ध)

 

विवरण

 

चुंबकीय स्तर गेज इलेक्ट्रिक हीट ट्रेसिंग प्रकार एक तरल स्तर माप उपकरण है जो कठोर तापमान स्थितियों के तहत विश्वसनीय संचालन सुनिश्चित करने के लिए पारंपरिक चुंबकीय स्तर गेज तकनीक को इलेक्ट्रिक हीट ट्रेसिंग के साथ जोड़ता है।

 

विशेषताएँ

 

गैर-संपर्क मापन
चुंबकीय स्तर गेज इलेक्ट्रिक हीट ट्रेसिंग प्रकार एक गैर-संपर्क सिद्धांत का उपयोग करता है, जिसका अर्थ है कि सेंसर या फ्लोट को मापे जा रहे तरल से सीधे संपर्क करने की आवश्यकता नहीं है।

 

तापमान नियंत्रण
लेवल गेज के आसपास उपयुक्त तापमान बनाए रखने को सुनिश्चित करने के लिए हीटिंग सिस्टम आमतौर पर थर्मोस्टेटिक नियंत्रण का उपयोग करते हैं। यह जरूरत पड़ने पर ही सक्रिय होता है, ऊर्जा की खपत को अनुकूलित करता है और कुशल संचालन को बनाए रखता है।

 

अत्यधिक तापमान में विश्वसनीयता
यह प्रणाली अत्यधिक ठंडे या उतार-चढ़ाव वाले तापमान वाले वातावरण, जैसे तेल और गैस क्षेत्र, रासायनिक संयंत्र, या जल उपचार संयंत्र के लिए आदर्श है।

 

 

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